跟着工业的开展，金属薄膜现已大规模的使用于社会生产日子中，如：糖块包装、药品胶囊包装、佛像贴金、以及宫廷装修等等。在光学薄膜范畴，金属薄膜资料以其高反、截止带宽、中性好、偏振效应好等特色被使用于高反射膜、分光片、滤光片的制备。比方：常选用消光系数/折射率值较大的铝(Al)、铬(Cr)做金属分光镜、选用反射率较高的铝(Al)、银(Ag)、金(Au)等作为高反射膜。不可避免的，金属薄膜也有因其本身特性所决议吸收稍大、机械强度较低的缺点，极大的约束了其的使用规模。

  金属薄膜与一般介质薄膜不同，金属薄膜为复折射率N=n-ik，其常存在吸收。n和k别离称为折射率和消光系数，金属膜的复折射率N取决于取决于它的电子结构，当电子吸收光子能量之后，便发生带外跃迁以及带内跃迁。因而，薄膜的反射率与吸收率在不同的波段上表现出不同的性质。

  因为不同金属的金属薄膜的附着力、机械强度、熔点等物理性质，以及氧化性、稳定性等化学性质不同，不同的金属薄膜在制备条件及办法也不同。金属膜的制备主要是真空淀积技能、溅射、RF离子镀等。真空淀积技能最重要的包括物理气相淀积(PVD)与化学气相淀积(CVD)等。现在在金属薄膜的制备过程中用到的物理气相淀积技能主要有电阻热蒸腾法、电子束加热蒸腾法、离子辅佐淀积。溅射办法主要有阴极溅射、三级溅射、高频溅射、磁控溅射、离子束溅射、反映溅射等等。下来就几种常用的金属薄膜制备条件做一介绍：

  制备条件：常选用热蒸腾淀积技能，高纯铝(99%)在高真空中快速蒸腾，基板温度小于50℃。

  适用于可见光区和红外波段，具有极高的反射率;R=99%(红外)，R=95%(可见)，红外光区反射率很低。

  制备条件：高真空，快蒸腾，低的基板温度。Ag膜与基板的附着力较差，需求有保护膜，一般Ag和Al2O3具有很强的附着力，需求在基板与Ag膜间镀一层Al2O3膜。

  在红外波段有和Ag膜差不多的折射率，用作红外反射镜，新镀的Au膜，质软，大约一周今后金属结实度趋于稳定，膜层结实度也趋于稳定;

  制备条件：高线℃，需求在基板先打底，以Al2O3,Gr或Ti膜作为底层，一般用Bi2O3或ThF4等作为保护膜，以进步强度;

  制备条件：线 A/s,基板温度生高，反射率增大，淀积在基板上的Cr膜，其反射率比室温淀积的高20%。