TCL科技集团请求薄膜制备办法等专利改进长期热处理工艺对薄膜的晦气影响
日期:2025-02-05 11:55:10 作者:星空体育竞技
金融界2024年10月30日音讯,国家知识产权局信息数据显现,TCL科技集团股份有限公司请求一项名为“薄膜的制备办法、光电器材及显现装置”的专利,公开号CN 118829334 A,请求日期为2023年4月。
专利摘要显现,本请求公开了一种薄膜的制备办法、光电器材及显现装置,制备办法有以下过程:供给初始薄膜;对所述初始薄膜进行溶剂退火处理,得到薄膜;其间,所述溶剂退火处理在磁场环境下进行。本请求旨在改进长期热处理工艺对薄膜形成的晦气影响。
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