形成有凹凸的平均周期为可见光波长以下的微小凹凸结构的光学膜对可见光波长区域的光具备优秀能力的防反射效果。因此，具有微小凹凸结构的光学膜例如用作防反射膜。这样的微小凹凸结构也被称为蛾眼结构。形成有微小凹凸结构的光学膜公开于例如专利文献1～3。

  作为微小凹凸结构的形成方法，有例如专利文献1中公开的光纳米压印法。光纳米压印法中，准备表明产生有微小凹凸结构的原盘。然后，在基材上涂布未固化的光固化性树脂，从而在基材上形成未固化树脂层。然后，将原盘的微小凹凸结构转印于未固化树脂层，使未固化树脂层固化。由此，在基材上形成微小凹凸结构(该微小凹凸结构具有原盘的微小凹凸结构的反转形状)。

  另外，如例如专利文献2所公开的那样，对于防反射膜的微小凹凸结构，为了在防反射膜的保管时、运输时、使用时等保护微小凹凸结构，有时粘贴保护膜。保护膜通过粘接剂被粘贴于微小凹凸结构。因此，将保护膜从微小凹凸结构剥下时，粘接剂有时会残留于微小凹凸结构上。在微小凹凸结构上残留有粘接剂的情况下，有时会因该粘接剂而使防反射膜的性能劣化。作为解决该问题的方法，可考虑降低粘接剂的粘着性，但该方法中，保护膜容易从微小凹凸结构脱落。即，存在保护膜对微小凹凸结构的保护变得不充分的可能性。因此，专利文献2中提出了使用利用了特定粘接剂的保护膜的方案。

  另外，专利文献2中公开的保护膜存在成本非常高这样的问题。另一方面，使用低成本的保护膜的情况下，存在剥下保护膜时粘接剂残留于微小凹凸结构、或没办法通过保护膜将微小凹凸结构充分保护的可能性。因此，期望不使用保护膜而能够保护微小凹凸结构的技术。

  另外，为了确认和保证防反射膜的操作性，需要使防反射膜为某些特定的程度的厚度。但是，若防反射膜过厚，则存在防反射膜的粘贴体厚型化这样的问题。进一步，在表面存在大凹凸的被粘接体上粘贴防反射膜的情况下，有时无法使防反射膜充分追随被粘接体的表面凹凸。

  例如，如图10所示，在具有高度s为50μm的框体51的触摸面板50上通过厚度25μm的粘接剂层53粘贴厚度50μm的防反射膜52的情况下，防反射膜52有时无法追随框体51的高度s。在该情况下，防反射膜52粘贴后在框体51的周围形成空隙54，因此会有损触摸面板50的外观。

  作为解决以上问题的方法，也可考虑在被粘接体的表面直接形成微小凹凸结构。但是，通过该方法形成的微小凹凸结构在被粘接体的表面弯曲时存在品质变得不稳定的问题。进一步，在被粘接体的表面直接形成微小凹凸结构时，有时会给其后的工序带来障碍。因此，通过该方法无法根本解决以上问题。

  另外，作为解决上述问题的方法，还可考虑将保护膜厚膜化的方法。根据该方法，防反射膜作为与保护膜成为一体的光学体进行运输等，因此光学体的操作性提高，进一步，防反射膜的操作性也提高。但是，该方法中需要保护膜，因此不足以满足想要不使用保护膜而保护微小凹凸结构的要求。

  因此，本发明鉴于以上问题而完成，本发明的目的是提供一种不使用保护膜而能够保护微小凹凸结构，能够将光学膜薄膜化，还可以提高操作性的新型且经改良的光学体、贴膜体、和光学体的制造方法。

  为了解决上述课题，根据本发明的一观点，提供一种光学体，其具备：在一个表面形成有凹凸的平均周期为可见光波长以下的第1微小凹凸结构的光学膜、以及覆盖第1微小凹凸结构的母板膜，母板膜具备在与第1微小凹凸结构相对的表面形成的第2微小凹凸结构，第2微小凹凸结构由固化性树脂的固化物构成，并且具有第1微小凹凸结构的反转形状，光学膜与母板膜彼此能够剥离。

  另外，第1微小凹凸结构和第2微小凹凸结构的分光反射率(波长350～800nm)可以为0.1～1.8％。

  根据本发明的另一观点，提供一种贴膜体，其具备被粘接体和粘贴于被粘接体的上述光学膜，光学膜通过将上述光学体粘贴于被粘接体，接着从光学体剥下母板膜，从而被粘贴于被粘接体。

  这里，被粘接体可以为选自由光学部件、显示元件和输入元件所组成的组中的任一种。

  根据本发明的另一观点，提供一种光学体的制造方法，包括如下工序：准备在表面形成有凹凸的平均周期为可见光波长以下的第3微小凹凸结构的原盘的工序；将第3微小凹凸结构转印于母板膜用未固化树脂层，从而在母板膜用未固化树脂层的表面形成具有第3微小凹凸结构的反转形状的第2微小凹凸结构的工序；使母板膜用未固化树脂层固化，从而制作母板膜的工序；将形成于母板膜表面的第2微小凹凸结构转印于光学膜用未固化树脂层，从而在光学膜用未固化树脂层的表面形成具有第2微小凹凸结构的反转形状的第1微小凹凸结构的工序；以及将光学膜用未固化树脂层固化，从而制作光学膜的工序。

  另外，还可以包含：在光学膜的表面中与形成有第1微小凹凸结构的表面相反一侧的表面形成粘接剂层的工序。

  另外，也可以在制作母板膜后，形成覆盖第2微小凹凸结构的无机膜，将形成有无机膜的第2微小凹凸结构转印于光学膜用未固化树脂层。

  另外，也可以在母板膜用未固化树脂层和光学膜用未固化树脂层的至少一方添加脱模剂。

  根据上述观点，由于光学膜被母板膜保护，因此不需要保护膜。进一步，母板膜由固化性树脂的固化物构成。因此，将母板膜从光学膜剥下时，不易在光学膜的微小凹凸结构上残留来自母板膜的残留物等。进一步，由于能够通过母板膜而获得光学体的厚度，因此能够一边将光学膜薄膜化，一边提高光学体1的操作性。

  如上说明，根据本发明，不使用保护膜而能够保护微小凹凸结构，能够将光学膜薄膜化，并且可提升操作性。

  图7C是实施例4的母板膜的分光反射光谱和实施例4的光学膜的分光反射光谱。

  图8是表示耐光性试验结果的分光透射率曲线A是粘贴有本实施方式所涉及的光学膜的触摸面板的截面图。

  以下一边参照附图一边对本发明的优选实施方式进行详细说明。予以说明的是，本说明书和附图中，对于具有实质上相同功能构成的构成要素，通过加上同一符号而省略重复说明。

  首先，基于图1，对于本实施方式所涉及的光学体1的整体构成进行说明。光学体1具备母板膜10、光学膜21和粘接剂层23。予以说明的是，粘接剂层23也可以没有。

  母板膜10是保护光学膜21的膜。另外，通过将母板膜10厚膜化，能够一边将光学膜21薄膜化一边提高光学体1的操作性。母板膜10具备在与光学膜21相对的表明产生的微小凹凸结构15(第2微小凹凸结构)。另一方面，光学膜21具备在与母板膜10相对的表明产生的微小凹凸结构25(第1微小凹凸结构)。微小凹凸结构25具有微小凹凸结构15的反转形状，与微小凹凸结构15咬合。即，微小凹凸结构25的凸部25a进入微小凹凸结构15的凹部15b，微小凹凸结构15的凸部15a进入微小凹凸结构25的凹部25b。进一步，这些微小凹凸结构15、25的凹凸的平均周期在可见光波长以下。由此，不仅光学膜21，母板膜10也能够用作防反射膜。另外，母板膜10与光学膜21彼此能够剥离。

  接着，基于图1～图2B，对母板膜10的构成进行说明。母板膜10具备基材膜12和形成于基材膜12的一个表面的微小凹凸树脂层11。予以说明的是，基材膜12与微小凹凸树脂层11可以被一体成型。例如，通过使基材膜12为热塑性树脂膜，从而能够将基材膜12与微小凹凸树脂层11一体成型。详细内容后述。

  在微小凹凸树脂层11的表面(即，母板膜10的表面)形成有微小凹凸结构15。微小凹凸结构15具有在母板膜10的膜厚方向上为凸的多个凸部15a、和在母板膜10的膜厚方向上为凹的多个凹部15b。凸部15a和凹部15b在母板膜10上周期性地配置。例如，图2A的例子中，凸部15a和凹部15b配置成交错格子状。当然，凸部15a和凹部15b可以以其他排列图案配置。例如，凸部15a和凹部15b可以配置成矩形格子状。另外，凸部15a和凹部15b也可以无规地配置。凸部15a和凹部15b的形状没有特别限制。凸部15a和凹部15b的形状可以为例如炮弹型、锥体状、柱状、针状。予以说明的是，凹部15b的形状是指由凹部15b的内壁面形成的形状。

  微小凹凸结构15的凹凸的平均周期为可见光波长以下(例如，830nm以下)，优选为100nm以上350nm以下，进一步优选为150nm以上280nm以下。因此，微小凹凸结构15成为所谓的蛾眼结构。这里，平均周期小于100nm的情况下，存在微小凹凸结构15的形成变难的可能性，因此不优选。另外，平均周期超过350nm的情况下，存在产生可见光的衍射现象的可能性，因此不优选。

  微小凹凸结构15的平均周期为彼此相邻的凸部15a间和凹部15b间的距离的算术平均值。予以说明的是，微小凹凸结构15能够通过例如扫描型电子显微镜(SEM)或截面透射型电子显微镜(截面TEM)等进行观察。另外，平均周期的算出方法例如如下。即，选取多个相邻的凹部15b的组合和相邻的凸部15a的组合，测定它们的距离(间距)。然后，对测定值进行算术平均，从而算出平均周期即可。予以说明的是，将凸部15a和凹部15b周期性排列于母板膜10上的情况下，凸部15a(或凹部15b)间的间距例如区分为点间距L2和道间距L3。即，将凸部15a和凹部15b周期性排列于母板膜10上的情况下，可以说微小凹凸结构15是多个由凸部15a和凹部15b形成的道(行)彼此平行地排列而成的结构。图2A的例子中，道在左右方向上延伸，在上下方向上并排。另外，配置于相邻的道间的凸部15a(或凹部15b)彼此在道的长度方向上以凸部15a(或凹部15b)的一半长度错开。点间距L2是在道的长度方向上排列的凸部15a(或凹部15b)间的间距。道间距L3是在道的排列方向(图2A中上下方向)上排列的凸部15a(或凹部15b)间的间距。

  另外，图2B所示的凸部15a的高度(凹部15b的深度)L1没有特别限制，优选为150nm以上300nm以下，更优选为190nm以上300nm以下，进一步优选为190nm以上230nm以下。

  通过将微小凹凸结构15的平均周期和高度设为上述范围内的值，从而能够更加提高母板膜10的防反射特性。具体而言，可以使微小凹凸结构15的分光反射率(波长350～800nm的分光正反射率)为0.1～1.8％。另外，如后所述，通过转印法形成微小凹凸结构15的情况下，转印后可以使母板膜10从原盘30容易地脱模。予以说明的是，关于凸部15a的高度，可以每个凸部15a都不同。

  微小凹凸树脂层11由固化性树脂的固化物构成。固化性树脂的固化物优选具有透明性。固化性树脂包含聚合性化合物和固化引发剂。聚合性化合物是利用固化引发剂进行固化的树脂。作为聚合性化合物，可列举例如环氧聚合性化合物和丙烯酸系聚合性化合物等。环氧聚合性化合物是分子内具有一个或两个以上环氧基的单体、低聚物或预聚物。作为环氧聚合性化合物，可列举各种双酚型环氧树脂(双酚A型、F型等)、酚醛清漆型环氧树脂、橡胶和聚氨酯等各种改性环氧树脂、萘型环氧树脂、联苯型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、芪型环氧树脂、三苯酚甲烷型环氧树脂、二环戊二烯型环氧树脂、三苯基甲烷型环氧树脂、和它们的预聚物等。

  丙烯酸系聚合性化合物是分子内具有一个或两个以上丙烯酰基的单体、低聚物或预聚物。这里，单体可进一步分类为分子内具有一个丙烯酰基的单官能单体、分子内具有两个丙烯酰基的二官能单体、分子内具有三个以上丙烯酰基的多官能单体。

  作为“单官能单体”，例如可列举：羧酸类(丙烯酸)、羟基类(丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸4-羟基丁酯)、烷基或脂环类的单体(丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯)、其他功能性单体(丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸四氢糠酯、丙烯酸苄酯、乙基卡必醇丙烯酸酯、丙烯酸苯氧基乙酯、N,N-二甲基氨基乙基丙烯酸酯、N,N-二甲基氨基丙基丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、丙烯酰基吗啉、N-异丙基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、2-(全氟辛基)乙基丙烯酸酯、3-全氟己基-2-羟基丙基丙烯酸酯、3-全氟辛基-2-羟基丙基-丙烯酸酯、2-(全氟癸基)乙基-丙烯酸酯、2-(全氟-3-甲基丁基)乙基丙烯酸酯、2,4,6-三溴苯酚丙烯酸酯、2,4,6-三溴苯酚甲基丙烯酸酯、2-(2,4,6-三溴苯氧基)乙基丙烯酸酯、丙烯酸2-乙基己酯等。

  作为“二官能单体”，例如可列举：三(丙二醇)二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷-二烯丙基醚、氨基甲酸酯丙烯酸酯等。

  作为“多官能单体”，例如可列举三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯、二(三羟甲基)丙烷四丙烯酸酯等。

  作为上述列举的丙烯酸系聚合性化合物以外的例子，可列举丙烯酰吗啉、甘油丙烯酸酯、聚醚系丙烯酸酯、N-乙烯基甲酰胺、N-乙烯基己内酯、乙氧基二乙二醇丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇丙烯酸酯、聚乙二醇丙烯酸酯、EO改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、EO改性双酚A二丙烯酸酯、脂肪族聚氨酯低聚物、聚酯低聚物等。从母板膜10的透明性、与光学膜21的剥离性的观点出发，聚合性化合物优选为丙烯酸系聚合性化合物。

  固化引发剂是使固化性树脂固化的材料。作为固化引发剂的例子，例如可列举热固化引发剂、光固化引发剂等。固化引发剂也可以为通过热、光以外的一些能量射线(例如电子射线)等进行固化的引发剂。固化引发剂为热固化引发剂的情况下，固化性树脂成为热固性树脂，固化引发剂为光固化引发剂的情况下，固化性树脂成为光固化性树脂。

  这里，从母板膜10的透明性、与光学膜21的剥离性的观点出发，固化引发剂优选为紫外线固化引发剂。因此，固化性树脂优选为紫外线固化性丙烯酸系树脂。紫外线固化引发剂为光固化引发剂的一种。作为紫外线固化引发剂，例如可列举2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、1-羟基-环己基苯基酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等。

  另外，微小凹凸树脂层11可以添加满足光学体1的用途的添加剂。作为这样的添加剂，例如可列举无机填料、有机填料、流平剂、表面调整剂、消泡剂等。予以说明的是，作为无机填料的种类，例如可列举SiO

  、TiO2、ZrO2、SnO2、Al2O3等金属氧化物微粒。进一步，为了能够将母板膜10与光学膜21容易地剥离，微小凹凸树脂层11中可以添加脱模剂等。详细内容后述。微小凹凸树脂层11的厚度从微小凹凸结构15的制造稳定性的方面出发，优选为1～60μm。

  基材膜12的种类没有特别限制，在将母板膜10用作防反射膜的情况下，优选为透明且不易断裂的膜。作为基材膜12的例子，可列举PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜、TAC(三乙酰纤维素)膜等。

  本实施方式中，母板膜10能够保护光学膜21的微小凹凸结构25。进一步，通过将母板膜10厚膜化，从而能够提高光学体1的操作性。即，本实施方式中，能够通过母板膜10来确保光学体1的操作性，因此能够将光学膜21薄膜化。母板膜10的厚膜化通过例如将基材膜12厚膜化而进行。基材膜12的厚度只要根据光学体1的用途、即光学体1所要求的操作性适当调整即可。基材膜12的厚度可以为例如50～125μm。

  接着，基于图1，对光学膜21的构成进行说明。光学膜21具有形成于一个表面(与母板膜10相对一侧的表面)的微小凹凸结构25。

  微小凹凸结构25具有在光学膜21的膜厚方向上为凸的多个凸部25a、和在光学膜21的膜厚方向上为凹的多个凹部25b。微小凹凸结构25具有微小凹凸结构15的反转形状。因此，微小凹凸结构25的平均周期与微小凹凸结构15的平均周期基本一致。即，微小凹凸结构25的凹凸的平均周期也在可见光波长以下。

  具体而言，微小凹凸结构25的凹凸的平均周期为可见光波长以下(例如，830nm以下)，优选为100nm以上350nm以下，进一步优选为150nm以上280nm以下。因此，微小凹凸结构25成为所谓的蛾眼结构。另外，凸部25a的高度没有特别限制，优选为150nm以上300nm以下，更优选为190nm以上300nm以下，进一步优选为190nm以上230nm以下。

  通过将微小凹凸结构25的平均周期和高度设为上述范围内的值，从而能够更加提高光学膜21的防反射特性。具体而言，可以使微小凹凸结构25的分光反射率(波长350～800nm)为0.1～1.8％。

  光学膜21的厚度没有特别限制。其中，本实施方式中，可通过母板膜10来得到光学体1的厚度。因此，能够一边确保光学体1的操作性，一边将光学膜21薄膜化。例如，光学膜21的厚度可以为1～10μm，更优选为1～6μm。本实施方式中，由于能够将光学膜21薄膜化，因此制作光学膜21时，可以不在基材膜上形成微小凹凸结构25。另外，光学膜21只要由与微小凹凸树脂层11同样的固化性树脂等构成即可。

  母板膜10能够与光学膜21剥离。更详细而言，母板膜10的微小凹凸树脂层11与光学膜21彼此能够剥离。

  能够将母板膜10的微小凹凸树脂层11与光学膜21剥离的方法没有特别限制，例如可列举以下方法。可以单独进行以下方法，也可以将多个方法并用。例如，可以在微小凹凸树脂层11和光学膜21的至少一方添加脱模剂。这里，脱模剂的种类没有特别限制，可列举有机硅系、氟系的脱模剂等。

  另外，也可以将微小凹凸树脂层11的弹性模量(杨氏模量)设为与光学膜21的弹性模量不同的值。予以说明的是，微小凹凸树脂层11的弹性模量与光学膜21的弹性模量之差优选设为400MPa～1200MPa。例如，也可以使光学膜21的弹性模量为300～700MPa，使微小凹凸树脂层11的弹性模量为700～1500MPa。这里，作为调整微小凹凸树脂层11和光学膜21的弹性模量的方法，例如，可以在未固化的固化性树脂中配合官能团数少的改性二丙烯酸酯、固化后成为低弹性的二醇系树脂等。这里，作为固化后成为低弹性的二醇系树脂，例如可列举聚乙二醇二丙烯酸酯等。

  另外，可以在微小凹凸结构15的表明产生无机膜(例如，图3J所示的无机膜16)。这里，作为构成无机膜的材料，可列举氧化硅、硅、氧化钨、ITO等。无机膜的厚度没有特别限制，可以为例如数nm～20nm程度。无机膜通过例如溅射法等在微小凹凸结构15的表明产生。在微小凹凸结构15的表明产生无机膜时，上述处理可以被省略。

  粘接剂层23形成于光学膜21的另一表面(未形成微小凹凸结构25的一侧的表面)。构成粘接剂层23的材料没有特别限制，只要根据光学体1的用途等适当选择即可。例如，粘接剂层23由光固化性粘接剂、热固化性粘接剂等固化性粘接剂或压敏性粘接剂(粘接剂)等构成。更具体而言，粘接剂层23优选由全光线透射率高、雾度低的高透明性粘接剂形成。例如，粘接剂层23优选由无载体丙烯酸系粘着膜等高透明性粘接剂带(Optically Clear Adhesive Tape：OCA)等构成。另外，粘接剂层23可以由具有耐光性、耐热性的固化性粘接剂构成。在该情况下，能够提高光学体1的耐光性、耐热性。粘接剂层23的厚度没有特别限制。其中，从粘贴作业时的光学体1的操作性、和光学体1对被粘接体(粘贴光学体1的物体)的表面形状的追随性的观点出发，优选为2～50μm。

  本实施方式中，可以使光学膜21的厚度为1～10μm，粘接剂层23的厚度为2～50μm。因此，可以使光学膜21和粘接剂层23的总厚度为3～60μm。

  由此，能够将粘贴有光学膜21的贴膜体薄型化。另外，能够使光学膜21充分追随被粘接体的表面形状。例如，如图9A所示，通过厚度20μm的粘接剂层23在具有高度s为50μm的框体51的触摸面板50上粘贴厚度5μm的光学膜21的情况下，能够在框体51的周围几乎不形成空隙54而将光学膜21粘贴于触摸面板50和框体51的表面。进一步，粘贴光学膜21后，可以实施高压釜处理等。在该情况下，如图9B所示，可以进一步减小空隙54。因此，光学膜21能够合适地适用于具有各种表面形状的被粘接体。

  微小凹凸结构15使用例如图3A所示的原盘30来制作。因此，接下来对原盘30的构成进行说明。原盘30例如是通过纳米压印法使用的原盘，为圆筒形状。原盘30可以为圆柱形状，也可以为其他形状(例如平板状)。其中，原盘30为圆柱或圆筒形状时，能够通过卷对卷方式将原盘30的微小凹凸结构32无缝地转印于树脂基材等。由此，能够以高生产效率制作转印有原盘30的微小凹凸结构32的母板膜10。从这样的观点出发，原盘30的形状优选为圆筒形状或圆柱形状。

  原盘30具备原盘基材31和形成于原盘基材31的表面的微小凹凸结构32(第3微小凹凸结构)。原盘基材31例如为玻璃体，具体而言，由石英玻璃形成。其中，原盘基材31只要是SiO

  纯度高的基材就没有特别限定，可以由熔融石英玻璃或合成石英玻璃等形成。原盘基材31的形状为圆筒形状，也可以为圆柱形状、其他形状。其中，如上所述，原盘基材31优选为圆筒形状或圆柱形状。微小凹凸结构32具有微小凹凸结构15的反转形状。＜6.原盘的制造方法＞

  接下来，说明原盘的制造方法。首先，在原盘基材31上形成(成膜)基材抗蚀剂层。这里，构成基材抗蚀剂层的抗蚀剂材料没有特别限制，可以为有机抗蚀剂材料和无机抗蚀剂材料中的任一个。作为有机抗蚀剂材料，例如可列举酚醛清漆系抗蚀剂、或化学放大型抗蚀剂等。另外，作为无机抗蚀剂材料，例如可列举包含钨(W)或钼(Mo)等中的1种或2种以上过渡金属的金属氧化物等。其中，为了进行热反应光刻，基材抗蚀剂层优选由包含金属氧化物的热反应型抗蚀剂形成。

  使用有机抗蚀剂材料的情况下，基材抗蚀剂层可以通过使用旋涂、狭缝涂布、浸涂、喷涂或丝网印刷等形成在原盘基材31上。另外，基材抗蚀剂层使用无机抗蚀剂材料的情况下，基材抗蚀剂层可以通过使用溅射法而形成。

  接着，通过曝光装置200(参照图3H)将基材抗蚀剂层的一部分曝光，从而在基材抗蚀剂层形成潜像。具体而言，曝光装置200调制激光光200A，对基材抗蚀剂层照射激光光200A。由此，照射了激光光200A的基材抗蚀剂层的一部分发生改性，因此能够在基材抗蚀剂层形成与微小凹凸结构32对应的潜像。潜像以可见光波长以下的平均周期形成于基材抗蚀剂层。

  接着，在形成有潜像的基材抗蚀剂层上滴加显影液，从而将基材抗蚀剂层显影。由此，在基材抗蚀剂层形成微小凹凸结构。接着，将基材抗蚀剂层作为掩模，对原盘基材31和基材抗蚀剂层进行蚀刻，从而在原盘基材31上形成微小凹凸结构32。予以说明的是，蚀刻的方法没有特别限制，优选为具有垂直各向异性的干式蚀刻，例如，优选为反应性离子蚀刻(Reactive Ion Etching：RIE)。通过以上工序，制作原盘30。予以说明的是，可以将对铝进行阳极氧化所得的阳极氧化多孔氧化铝用作原盘。阳极氧化多孔氧化铝公开于例如国际公开第2006/059686号公报。

  接着，基于图3H，对曝光装置200的构成进行说明。曝光装置200是对基材抗蚀剂层进行曝光的装置。曝光装置200具备：激光光源201、第1反射镜(mirror)203、光电二极管(Photodiode：PD)205、偏转光学系统、控制机构230、第2反射镜213、移动光学平台220、主轴电动机225、以及转台227。另外，原盘基材31被置于转台227上，并且能够旋转。

  激光光源201是发出激光光200A的光源，例如为固体激光器或半导体激光器等。激光光源201所发出的激光光200A的波长没有特别限定，例如可以为400nm～500nm的蓝色光区域的波长。另外，激光光200A的点径(对抗蚀剂层照射的光点的直径)只要小于微小凹凸结构32的凹部的开口面的直径即可，例如为200nm左右即可。从激光光源201发出的激光光200A被控制机构230控制。

  从激光光源201出射的激光光200A以平行光束的状态前进，被第1反射镜203反射，并被导向偏转光学系统。

  第1反射镜203由偏光光束分离器构成，具有使偏光成分的一方反射，使偏光成分的另一方透过的功能。透过第1反射镜203的偏光成分由光电二极管205接受光，并进行光电转换。另外，通过光电二极管205进行了光电转换的受光信号被输入激光光源201，激光光源201基于输入的受光信号进行激光光200A的相位调制。

  偏转光学系统中，激光光200A通过聚光透镜207被聚光于电光偏转元件209。电光偏转元件209是能够控制激光光200A的照射位置的元件。曝光装置200通过电光偏转元件209，也能够改变被导向移动光学平台220上的激光光200A的照射位置。激光光200A通过电光偏转元件209调整了照射位置后，通过准直仪透镜211再次被平行光束化。从偏转光学系统出射的激光光200A被第2反射镜213反射，水平且平行地导向移动光学平台220上。

  移动光学平台220具备光束扩展器(Beam expader：BEX)221和物镜223。被导向移动光学平台220的激光光200A通过光束扩展器221被成形成所期望的光束形状后，通过物镜223，对形成于原盘基材31上的基材抗蚀剂层进行照射。另外，原盘基材31每转一圈，移动光学平台220就在箭头R方向(输送间距方向)上仅移动一输送间距(道间距)。原盘基材31被设置在转台227上。主轴电动机225通过使转台227旋转而使原盘基材31旋转。

  另外，控制机构230具备格式器231和驱动器233，控制激光光200A的照射。格式器231生成控制激光光200A的照射的调制信号，驱动器233基于格式器231所生成的调制信号，控制激光光源201。由此，控制激光光200A对原盘基材31的照射。

  格式器231基于描绘有在基材抗蚀剂层描绘的任意图案的输入图像，生成用于对基材抗蚀剂层照射激光光200A的控制信号。具体而言，首先，格式器231取得描绘有在基材抗蚀剂层描绘的任意图案的输入图像。输入图像是相当于在轴向上切开基材抗蚀剂层的外周面而扩展成一平面的、基材抗蚀剂层的外周面的展开图的图像。接着，格式器231将输入图像分割成预定大小的小区域(例如，分割成格子状)，并判断各个小区域是否包含描绘图案。接着，格式器231生成为了对判断为包含描绘图案的各小区域照射激光光200A而进行控制的控制信号。进一步，驱动器233基于格式器231所生成的控制信号控制激光光源201的输出。由此，控制激光光200A对基材抗蚀剂层的照射。

  工序1中，如图3B所示，在基材膜12上形成未固化树脂层11p(母板膜用未固化树脂层)。这里，未固化树脂层11p由未固化的固化性树脂等构成。这里，固化性树脂是上述固化性树脂。未固化树脂层11p也可以添加上述脱模剂等。接着，使未固化树脂层11p密合于原盘30的微小凹凸结构32。由此，微小凹凸结构32被转印于未固化树脂层11p。

  工序2中，如图3C所示，使未固化树脂层11p固化。由此，在基材膜12上形成微小凹凸树脂层11。即，制作母板膜10。图3C的例子中，对未固化树脂层11p照射紫外线(UV光)，从而使未固化树脂层11p固化。因此，该例子中，未固化树脂层11p由紫外线固化性树脂等构成。接着，如图3D所示，从原盘30剥离母板膜10。在微小凹凸结构15的表面可以形成图3J所示那样的无机膜16。

  予以说明的是，工序2也可以通过所谓的卷对卷方式的转印装置连续地进行。以下，基于图3I，对转印装置300的详细构成进行说明。图3I所示的转印装置300是使用了原盘30的卷对卷方式的转印装置。母板膜10能够使用这样的转印装置300来制作。予以说明的是，转印装置300中，使用光固化性树脂来制作母板膜10。当然，也可以使用其他种类的固化性树脂来制作母板膜10。

  转印装置300具备原盘30、基材供给辊301、卷绕辊302、导辊303、304、压辊305、剥离辊306、涂布装置307、以及能量射线缠绕成卷状所得的辊，卷绕辊302是卷绕母板膜10的辊。另外，导辊303、304是输送基材膜12的辊。压辊305是使层叠有未固化树脂层11p的基材膜12、即被转印膜100密合于原盘30的辊。剥离辊306是将形成有微小凹凸树脂层11的基材膜12、即母板膜10从原盘30剥离的辊。

  涂布装置307具备涂布机等涂布机构，将未固化的光固化性树脂涂布于基材膜12，形成未固化树脂层11p。涂布装置307可以为例如凹版涂布机、线棒涂布机或模涂机等。另外，能量射线是发出能够将光固化性树脂固化的波长的光的光源，例如可以为紫外线中，首先，从基材供给辊301通过导辊303连续地送出基材膜12。予以说明的是，送出的中途也可以将基材供给辊301变更为批量不同的基材供给辊301。对于送出的基材膜12，通过涂布装置307涂布未固化的光固化性树脂，将未固化树脂层11p层叠于基材膜12。由此，制作被转印膜100。通过压辊305而使被转印膜100与原盘30密合。由此，原盘30的微小凹凸结构32被转印于未固化树脂层11p。能量射线的外侧。然后，能量射线p照射光，从而将未固化树脂层11p固化。由此，在基材膜12上形成微小凹凸树脂层11。接着，形成有微小凹凸树脂层11的基材膜12、即母板膜10通过剥离辊306从原盘30剥离。接着，母板膜10通过导辊304被卷绕辊302卷绕。

  这样，转印装置300中，以卷对卷输送被转印膜100，另一方面，将原盘30的周面形状转印于被转印膜100。由此，制作母板膜10。

  予以说明的是，由热塑性树脂制作母板膜10的情况下，不需要涂布装置307和能量射线设为热塑性树脂膜，将加热装置配置于较原盘30更靠上游的一侧。通过该加热装置加热基材膜12而使其柔软，然后，将基材膜12按压于原盘30。由此，形成于原盘30周面的微小凹凸结构32被转印于基材膜12。在该情况下，基材膜12与微小凹凸树脂层11被一体成型。予以说明的是，也可以将基材膜12设为由热塑性树脂以外的树脂构成的膜，将基材膜12与热塑性树脂膜层叠。在该情况下，层叠膜通过加热装置被加热后，被按压于原盘30。

  因此，转印装置300能够连续地制作转印有形成于原盘30的微小凹凸结构32的转印物、即母板膜10。这里，形成于原盘30周面的微小凹凸结构32具有所期望的平均周期。因此，形成于母板膜10的微小凹凸结构15具有所期望的平均周期。

  工序3中，如图3E所示，在微小凹凸结构15上形成未固化树脂层21p(光学膜用未固化树脂层)。由此，将微小凹凸结构15转印于未固化树脂层21p。

  这里，未固化树脂层21p只要由与未固化树脂层11p同样的材料构成即可。其中，未固化树脂层11p、21p的具体材料按照微小凹凸树脂层11与光学膜21能够剥离的方式进行选择。另外，在微小凹凸结构15上形成未固化树脂层21p的方法没有特别限制，例如可列举：用吸管在微小凹凸结构15上滴加未固化的固化性树脂的方法；使用冲模，在母板膜10与表面进行了镜面加工的玻璃制的反射镜原盘40之间填充未固化的固化性树脂的方法等。图3E所示的例子中，使用反射镜原盘40在微小凹凸结构15上形成有未固化树脂层21p。这里，作为反射镜原盘40，可以使用金属制的反射镜原盘。

  接着，如图3F所示，使未固化树脂层21p固化。由此，在母板膜10上形成光学膜21。图3F的例子中，对未固化树脂层21p照射紫外线p固化。因此，该例子中，未固化树脂层21p由紫外线固化性树脂等构成。接着，如图3G所示，将母板膜10和光学膜21从反射镜原盘40剥离。

  予以说明的是，光学膜21与反射镜原盘40的界面是平坦的，与此相对，在光学膜21与母板膜10的微小凹凸树脂层11的界面形成有微小凹凸结构15、25。因此，光学膜21与母板膜10的微小凹凸树脂层11的界面的面积扩大，并且锚固效应也会起作用。因此，光学膜21相比于反射镜原盘40而与母板膜10的微小凹凸树脂层11更牢固地密合。因此，光学膜21能够从反射镜原盘40容易地剥离。

  接着，如图1所示，在光学膜21的另一表面(未形成微小凹凸结构25的一侧的表面)形成粘接剂层23。例如，将粘接剂带粘贴于光学膜21的另一表面。由此，制作光学体1。

  接着，基于图4A～图4B，对光学体1的第1使用方法进行说明。该使用方法中，将粘接剂层23粘贴于光学体1。如图4A所示，首先，在被粘接体41的表面粘贴光学体1的粘接剂层23。母板膜10能够保护光学膜21的微小凹凸结构25。例如，母板膜10能够防止微小凹凸结构25与其他物体的接触、摩擦等。接着，如图4B所示，仅将母板膜10从光学体1剥下。此时，母板膜10由固化性树脂的固化物形成，因此不易在光学膜21的微小凹凸结构25上残留来自母板膜10的残留物等。进一步，光学膜21能够薄膜化，因此将母板膜10从光学体1剥下后，光学膜21能够容易地追随表面的凹凸。另外，母板膜10能够用作防反射膜等。予以说明的是，被粘接体41的种类没有特别限制。例如，被粘接体41可以为各种光学器件(光学部件)、显示元件、和输入元件。被粘接体41可以为例如照相机、显示器、放映机、望远镜、触摸面板、可穿戴终端、头戴显示器、车载显示器、陈列橱窗等。特别地，在被粘接体41的表面形状歪斜(例如，有凹凸、有曲面等)的情况下，光学膜21也能够追随被粘接体41的表面形状。光学体1也可以用作这些光学器件的防反射膜。当然，光学体1也可以粘贴于其他被粘接体41。

  接着，基于图5A～图5C，对光学体1的第2使用方法进行说明。该使用方法中，粘接剂层23未被粘贴于光学体1。如图5A所示，首先，在被粘接体41的表明产生未固化的粘接剂层23b。构成粘接剂层23b的粘接剂的种类没有特别限制，例如为与构成粘接剂层23的粘接剂同样即可。接着，如图5B所示，将光学体1粘贴于粘接剂层23b。接着，使粘接剂层23b固化，从而将粘接剂层23b制成固化物层23B。例如，可以对粘接剂层23b照射紫外线b固化。在该情况下，粘接剂层23b由光固化性树脂构成。接着，如图5C所示，仅将母板膜10从光学体1剥下。

  由以上所述，根据本实施方式，光学膜21被母板膜10保护，因此不需要保护膜。进一步，母板膜10由固化性树脂的固化物构成。因此，将母板膜10从光学膜21剥下时，不易在光学膜21的微小凹凸结构25上残留来自母板膜10的残留物等。进一步，可通过母板膜10来得到光学体1的厚度，因此能够一边将光学膜21薄膜化一边提高光学体1的操作性。

  实施例1中，通过以下工序制作光学体1。作为基材膜12，准备厚度50μm的PET膜。另外，作为光固化性树脂，准备添加有有机硅系脱模剂(毕克化学公司、有机硅润滑剂BYK333)的紫外线固化性丙烯酸系树脂(迪睿合(株)、SK1100系列)。然后，在基材膜12上涂布光固化性树脂，从而在基材膜12上形成未固化树脂层11p。另一方面，使用上述曝光装置200，制作原盘30。接着，将原盘30的周面按压于未固化树脂层11p，从而将形成于原盘30周面的微小凹凸结构32转印于未固化树脂层11p。接着，使未固化树脂层11p固化，从而制作微小凹凸树脂层11。即，制作母板膜10。

  这里，使微小凹凸树脂层11的厚度为约3μm。另外，微小凹凸结构15的凸部15a和凹部15b以交错格子状排列。另外，凸部15a的高度L1设为200～250nm，点间距L2设为230～270nm，道间距L3设为150～180nm。微小凹凸结构15的表面形状通过扫描型电子显微镜(SEM)进行确认。

  另一方面，作为光学膜21用的光固化性树脂，准备在多官能特殊丙烯酸酯(迪睿合(株)、SK1100系列)中添加有官能团数少的改性二丙烯酸酯(东亚合成(株)、M260)的紫外线固化性树脂。即，实施例1中，为了使光学膜21的弹性模量低于微小凹凸树脂层11的弹性模量，将官能团数少的改性二丙烯酸酯添加于紫外线固化性树脂。

  然后，将该光固化性树脂涂布在母板膜10的微小凹凸结构15上，从而在微小凹凸结构15上形成未固化树脂层21p。通过该工序，将微小凹凸结构15转印于未固化树脂层21p。接着，使未固化树脂层21p固化，从而制作光学膜21。这里，光学膜21的厚度设为约3μm。另外，通过粘弹性测定器(DMA)(德州仪器公司制Rheometrics System Analyzer-3(RSA-3))测定母板膜10的弹性模量(具体而言，微小凹凸树脂层11的弹性模量)和光学膜21的弹性模量。结果是母板膜10的弹性模量为2,710MPa，光学膜21的弹性模量为1,300MPa。接着，在光学膜21上粘贴厚度25μm的高透明性粘接剂带(OCA带)(丙烯酸系粘着材、商品名：FW25、Nichiei公司)作为粘接剂层23。通过以上工序，制作光学体1。

  将凸部15a的高度L1设为150～200nm，将点间距L2和道间距L3均设为150～270nm，除此以外进行与实施例1同样的工序。由此，制作实施例2所涉及的光学体1。

  将凸部15a的高度L1设为200～250nm，将点间距L2和道间距L3均设为150～270nm，除此以外进行与实施例1同样的工序。由此，制作实施例3所涉及的光学体1。

  实施例4中，通过以下工序制作光学体1。作为基材膜12，准备厚度50μm的PET膜。另外，作为光固化性树脂，准备添加有有机硅系脱模剂(毕克化学公司、有机硅润滑剂BYK333)的紫外线固化性丙烯酸系树脂(迪睿合(株)、SK1100系列)。然后，在基材膜12上涂布光固化性树脂，从而在基材膜12上形成未固化树脂层11p。另一方面，使用上述曝光装置200，制作原盘30。接着，将原盘30的周面按压于未固化树脂层11p，从而将形成于原盘30周面的微小凹凸结构32转印于未固化树脂层11p。接着，使未固化树脂层11p固化，从而制作微小凹凸树脂层11。即，制作母板膜10。

  这里，微小凹凸树脂层11的厚度设为约3μm。另外，微小凹凸结构15的凸部15a和凹部15b以交错格子状排列。另外，凸部15a的高度L1设为250nm，点间距L2设为153～230nm，道间距L3设为153～230nm。微小凹凸结构15的表面形状通过扫描型电子显微镜(SEM)进行确认。

  接着，在微小凹凸结构15的表面溅射硅，从而在微小凹凸结构15的表明产生无机膜。无机膜的厚度设为20nm。然后进行与实施例1同样的处理，从而制作光学膜21。

  测定实施例1～4中制作的母板膜10和光学膜21的分光反射光谱(分光正反射光谱)。

  母板膜10的分光反射光谱通过以下工序来测定。即，如图6A所示，在母板膜10的另一表面(未形成微小凹凸树脂层11的一侧的表面)利用OCA带粘贴黑色的PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)板42。即，能够消除来自母板膜10的另一表面的反射。然后，测定微小凹凸结构15上的分光正反射光谱。分光正反射光谱使用分光光度计(类型V-550、带有绝对反射率测定单元，日本分光公司制)进行测定。另外，将入射角和反射角均设为5°，将波长范围设为350～800nm，将波长分辨率设为1nm。另外，关于实施例4，使用形成无机膜之前的母板膜10，测定分光反射光谱。

  光学膜21的分光反射光谱通过以下工序测定。即，如图6B所示，将光学膜21通过粘接剂层23粘贴于玻璃制的被粘接体41。进一步，在被粘接体41的另一表面(未粘贴有光学膜21的一侧的表面)利用OCA带粘贴黑色的PET板42。由此，能够消除来自被粘接体41的另一表面的反射。然后，测定微小凹凸结构25上的分光正反射光谱。具体测定方法与母板膜10同样。

  将分光反射光谱的测定结果示于图7A、图7B、图7C。图7A～图7C的横轴表示波长，纵轴表示分光反射率(正反射率)。图7C的曲线的分光反射光谱，曲线的分光反射光谱。另外，关于实施例3、4，从分光反射光谱算出色调(Yxy表色系中的Y、x、y的数值与L*a*b*表色系中的a*、b*的数值)。将实施例3所涉及的算出结果示于表1，将实施例4所涉及的算出结果示于表2。

  如图7A、图7B、图7C所示，实施例1～4的分光反射率(正反射率)在350～800nm的测定波长的范围内为0.1～1.8％。因此可知，实施例1～4所涉及的母板膜10和光学膜21均能够用作防反射膜。另外，关于色调，也得到了作为防反射膜没问题的水平的结果。

  在玻璃基板的表面粘贴高度50μm的框体，从而制作被粘接体41。然后，将实施例1中制作的光学体1粘贴于该被粘接体41，然后将母板膜10剥下。另外，制作同样的被粘接体41，在该被粘接体41上利用OCA带粘贴母板膜10。即，制作粘贴有光学膜21的贴膜体和粘贴有母板膜10的贴膜体。然后，通过目视观察这些贴膜体。结果是对于粘贴有光学膜21的贴膜体，在框体的周围几乎未观察到空隙54。但是，对于粘贴有母板膜10的贴膜体，在框体的周围观察到许多大的空隙54。

  进一步，对各贴膜体进行高压釜处理(条件：50℃、+0.5atm、保持0.5h)。然后，将高压釜处理后的贴膜体通过目视观察。其结果是对于粘贴有光学膜21的贴膜体，可以确认到空隙54消失了。另一方面，对于粘贴有母板膜10的贴膜体，空隙54的分布没有变化。即，依然观察到许多大的空隙54。

  按照专利文献3中公开的方法，制作比较例所涉及的光学体。该光学体具备光学膜和保护膜。光学膜具备厚度50μm的基材膜、形成于基材膜的一个表面的厚度3μm的微小凹凸树脂层、以及形成于基材膜的另一表面的厚度25μm的粘接剂层。保护膜保护微小凹凸树脂层。保护膜的厚度设为38μm。然后，将该光学体粘贴于与上述同样的被粘接体41，将保护膜剥下。然后，对粘贴有光学膜的贴膜体进行上述试验。其结果是不管有无高压釜处理，均观察到许多大的空隙54。另外，在微小凹凸树脂层的表面，处处可见粘接剂(保护膜的残留物)。

  这样，粘贴有实施例1所涉及的光学膜21的贴膜体中，几乎未观察到空隙54，与此相对，粘贴有母板膜10或比较例所涉及的光学膜的贴膜体中，观察到许多大的空隙54。光学膜21相对于母板膜10和比较例所涉及的光学膜为薄膜，因此可推测对被粘接体41的表面形状的追随性优异。

  通过与实施例1同样的工序制作光学体1。其中，实施例5中粘接剂层23未形成在光学膜21上。

  接着，将作为光固化性粘接剂的有机硅粘接剂(信越有机硅公司制、KER2500)涂布于白板玻璃(涂布厚度0.005～0.01mm)。接着，将光学体1的光学膜21粘贴于有机硅粘接剂层。接着，使有机硅粘接剂层固化。接着，将母板膜10剥下。由此，得到带有光学膜的白板玻璃。

  实施例5中，研究该带有光学膜的白板玻璃的耐光性。具体而言，从带有光学膜的白板玻璃的光学膜21侧在以下的条件下照射光。接着，在光照射前后，利用日本分光制V560分光机和绝对反射率测定机ARV474S测定带有光学膜的白板玻璃的分光透射率。

  另外，作为对照例(I)所涉及的光学膜，准备环烯烃聚合物(COP)膜(日本ZEONE公司制、ZF14)(厚度100μm)。进一步，将实施例5中使用的有机硅粘接剂以涂布厚度0.01mm涂布于白板玻璃的表面，使其光固化，从而准备对照例(II)所涉及的光学膜。然后，同样地测定这些光学膜的分光透射率。

  将结果示于图8。图8的横轴表示波长，纵轴表示扩散透射率(分光透射率)。根据图8可知，光学体1在紫外线照射前后透射率没有大幅变动，且维持了高透射率，因此与通常被认为光学特性优异的COP膜(对照例(I))、使有机硅粘接剂固化所得的光学膜(对照例(II))相比耐光性优异。

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