表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的；可以是透明介质，也可以是吸收介质；可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，因此导致光束的漫散射；膜层之间的相互渗透形成扩散界面；由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性；膜层具有复杂的时间效应。不同物质对光有不同的反射、吸收、透射性能，光学薄膜是利用材料对光的这种性能，并结合实际需要制造的。

  光学薄膜按应用分为反射膜、增透膜、滤光膜、光学保护膜、偏振膜、分光膜和位相膜。减反射膜，是应用最广泛的光学薄膜，它能够大大减少光学表面的反射率而提高其透射率。对于单一波长，理论上的反射率可以降到零，透射率为100%；对于可见光谱段，反射率能够更好的降低到0.5%，甚至更低，以保证一个由多个镜片组成的复杂系统有足够的透射率和极低的杂散光。现代光学装置没有一个是不经过减反射处理的。由于其具有极低的反射率和鲜艳的表面颜色，现代人们日常生活中的眼镜普遍都镀有减反射膜。

  只允许一个谱段（可能比较宽，也可以相当窄）的光透过，它是光波的帯通滤波器。窄帯通滤波器在光学仪器中具有获得单色光和抑制系统光学背景的作用，在光学、医学、刑侦、通讯、生化等领域有广泛应用。超窄带滤光片在光通信中成功地应用来制造密集型的波分复用器（DWDM），从而推动了光通信的发展。宽带通滤光膜最近最成功的应用是用于制造低辐射玻璃，能够适用于发展一种反射能量而又可透过太阳光的建筑窗口玻璃。涂布在线认为，这在能源费用不断上涨的今天，必将发展成一个大的产业。

  现代科学技术特别是激光技术和信息光学的发展，光学薄膜不仅用于纯光学器件，在光电器件、光通信器件上也得到普遍的应用。近代信息光学、光电子技术及光子技术的发展，对光学薄膜产品的长寿命、高可靠性及高强度的要求慢慢的升高，从而发展了一系列新型光学薄膜及其制备技术，并为解决光学薄膜产业化面临的问题提供了全面的解决方案。包括高强度激光器、金刚石及类金刚石膜、软X射线多层膜、太阳能选择性吸收膜和光通信用光学膜等。

  照明领域现在使用十分普遍的是石英卤素灯, 它具有体积小、发光效率高、光衰小、寿命长、显色指数高的优点，特别是采用光学薄膜技术制作而成的“定向冷反射卤钨灯”，由于其光源发出的红外光被透射，而可见光被定向反射的优势, 得到了愈来愈普遍的应用，无论是工业照明(放映灯、投影灯、医用灯、背投影电视光源等)，商业照明(商场、饭店、珠宝、服装等),还是家庭照明(装饰装潢)，未来市场发展的潜力光明。

  其中的核心技术就是在冷反射杯的镀膜技术获得了空前的成功应用，使得镀有反射可见、透射红外的冷光杯有着非常明显的先进性，用仅有国际价格十分之一的国产改装设备，采用具有中国特色的镀膜技术和工艺，使得冷光杯具有极大的优势，性价比居世界前列，世界上几乎所有照明巨头的冷光(灯)都从中国采购，中国的年出口量在3亿元以上。

  冷光膜的设计原理是要求能够尽可能高的反射可见光，而透射红外光，镀在弧形反光碗上，使反射的光亮很高，而红外幅射热则大幅度减少，以此来降低了光束的温度。用这种技术制作的照明射灯就称为冷光灯。冷光膜其实就是一种长波通的宽带反射膜，要有一定的可见区反射带宽和长波良好的通带，可用高反射膜与光谱分光膜的设计原理作为解决方案。为得到在可见区较宽的反射带, 可用两个方法解决：

  镀膜材料为ZnS-SiO 组合。这对材料的组合非常有价值，有些文献报道一氧化硅和硫化锌由于应力不匹配，容易膜裂，故不宜作为高低折射率材料搭配。而现在的研究证明，由于采取必要而独特的工艺制备技术，所以此类膜层非常牢固，耐水性、耐温性也很理想，其膜层可经受沸水蒸煮，由此膜料制作在冷光射灯，常规使用的寿命在2000h 以上。它已作为冷光膜的优选膜料，同理也可重点推荐用于其它镀膜制品。

  光学薄膜的制备技术是把薄膜材料按照一定的技术途径和特定的要求沉积为薄膜。光学薄膜能采用物理气相学沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和化学液相沉积(CLD)3种技术来制备，物理气相学沉积(PVD)制备光学薄膜这一技术目前已被广泛采用，从而使各种光学薄膜在所有的领域得到普遍的应用，下面涂布在线着重介绍这一制备技术。

  物理气相沉积是光学薄膜制备的主流技术，物理气相沉积法，简单地说是在真空环境中加热薄膜材料使其成为蒸汽，蒸汽再凝结到温度相对低的基片上形成薄膜。PVC需要用真空镀膜机，制造成本高，膜层厚度可以精确控制，膜层强度好。PVD制备光学薄膜这一技术目前已被广泛采用，从而使各种光学薄膜在所有的领域得到普遍应用。在PVD方法中，根据膜料汽化方式的不同，又分为热蒸发、溅射、离子镀及离子辅助镀技术。其中，光学薄膜主要是采用热蒸发及离子辅助镀技术，溅射及离子镀技术用于光学薄膜制备是近几年发展起来的。

  光电信息产业中最有发展前途的通讯、显示和存储三大类产品不能离开光学薄膜，如投影机、背投影电视机、数码照相机、摄像机、DVD，以及光通讯中的DWDM、GFF滤光片等，光学薄膜的性能在很大程度上决定了这一些产品的最终性能。光学薄膜正在突破传统的范畴，愈来愈普遍地渗透到从空间探测器、集成电路、生物芯片、激光器件、液晶显示到集成光学等各学科领域中，对科学技术的进步和全球经济的发展都起着重要的作用，研究光学薄膜物理特性及其技术已构成现代科技的一个分支——薄膜光学。光学薄膜技术水平已成为衡量一个国家光电信息等高新技术产业科技发展水平的关键技术之一。

  总结：光学薄膜的特点是：表面十分光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的；可以是透明介质，也可以是吸收介质；可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，因此导致光束的漫散射；膜层之间的相互渗透形成扩散界面；由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性；膜层具有复杂的时间效应。不同物质对光有不同的反射、吸收、透射性能，光学薄膜是利用材料对光的这种性能，并结合实际需要制造的。

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