光学保护膜是指沉积在金属或其它软性易侵蚀的材料或薄膜表面，增加其牢固性和稳定能力，改进其光学性质的一类光学薄膜。

  最常用的是金属保护膜，它可保护金属镜面不受外界侵蚀而降低质量，又可增加镜面的机械强度常用的金属镜保护膜材料有二氧化硅、氧化硅、氧化铝、和氟化镁等。

  保护膜不但可以增加镜面的牢固性和稳定能力，还可以与被保护的材料或薄膜进行光学匹配，以改进其光学性质光存贮材料的保护膜亦很有意义，它不但可以隔绝空气和基体材料对存贮材料的侵蚀，提高光盘的稳定性和寿命，而且通过匹配设计，提高它的写入灵敏度和载噪比。

  在实用的光盘体系中，不论是相变型、磁光型还是其它方式的，几乎都是由记录介质和匹配介质组成的多层膜来实现的。介质保护膜不仅用于金属、半导体，而且还用于介质膜本身。激光薄膜中的保护膜，可拿来提高薄膜的抗激光强度。

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  TFCalc功能很强大，是光学薄膜设计和分析的通用工具。可用于设计很多类型的减反、高反、带通、分光、相位等膜系。

  TFCalc能设计基底双面膜系，单面膜层最多可达5000层，支持膜堆公式输入。并可以模拟很多类型的光照：如锥形光束，随机辐射光束等。

  可用极值、变分法等方法优化膜系的反射率、透过率、吸收率、相位、椭偏参数等目标。还能够使用针法，只要初始的单层膜就可以自动设计出各种膜系。

  反射率、透过率、吸收率、椭偏参数分析；电场强度分布曲线；膜系反射和透过颜色分析；晶控曲线计算；膜层公差与敏感度分析；良率分析。

  TFCalc Reoptimize可以与镀膜机进行联机，及时补偿镀制前层膜时的公差，保证最后成品膜的性能合格。

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