光学薄膜制备工艺-11-2012
日期:2025-02-05 11:49:43 作者:星空体育竞技
离子辅佐镀膜的机理 离子辅佐镀膜影响膜层质量的参数 薄膜性质与大块资料挨近,进步膜层光学 特性(吸收、散射) 进步介质膜膜层的细密性,耐热性,硬 度,附着性,反抗腐蚀才能,可重复性 常温镀膜
正交表是正交试验的一个重要东西,表1是组织四个 要素(A、B、C、D)和三个(1、2、3)表明要素 的水平,使用这张表可以直接进行4要素3水平试验,试 验次数为9次。
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由极差可知,四个要素对折射率的影响按资料配比D,基板 温度A,真空度B和淀积速率C的次第递减。类似地,对吸收 和散射别离依次第C-D-A-B和D-B-C-A递减。
A、定目标,挑要素,选水平 B、选用正交表,排表 C、组织试验计划,试验 D、剖析试验数据,选取较优条件。
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表中○表明或许有联系,●表明有联系,●●表明或许很有 联系,x表明本来没联系,而选用新的蒸镀办法后会有联系
正交试验是研讨和处理多要素试验的一种科学办法, 它在理论知道和实践经历的基础上,使用一种现成的 规格化表格-正交表来组织试验。这种办法的长处是 能在许多试验条件中找出代表性强的少量条件,经过 很少几回试验,找出较优的工艺要素。