剩下气体分子与膜料分子的磕碰，导致蒸腾的膜 料分子或原子的能量损失和化学反响，致使膜层集合 密度低，膜层疏松，化学成分不纯。

  环境气体分子及膜层分子的热搬迁，可使膜层结构 重组。因而，可使膜层折射率、应力、硬度有较大 改动。

  留意：以上所述的10个工艺要素对膜层功能的影响，是依 据实践工艺项目和膜层微观功能计算汇总得出的。

  原理：使用人眼对薄膜厚度改变时引起光束 透过强度改变或许薄膜干与色彩改变来判别 膜层厚度。

  ——使用镀膜过程中，膜层的T或R随膜层厚度添加呈现 极值，依据极值个数，获得以λ/4为单位的整数厚度的 膜层。

  2).镀中和镀后炮击：进步膜层的集合密度，促进化 学反响，使氧化物膜层折射率进步，机械强度和抗 激光损害阈值进步。

  1）. 膜层对基片的附着力差； 2）. 散射吸收增大抗激光损害能力差； 3）. 透光功能变差。

  膜料的化学成分（纯度/杂质品种）、物理 状况（粉/块）和预处理（真空烧结/锻压）影响 膜层结构和功能。

  动能差异很大，导致膜层结构有较大差异，体现 为折射率、散射、附着力有差异。

  折射率 透射率 散射 几许厚度 应力 附着力 硬度 温度稳定性 不溶性 抗激光辐射 缺陷

  ④离子炮击。蒸镀前的炮击能够清洁外表，添加附 着力；镀后炮击能大大的进步膜层集合密度等，从而是机 械强度和硬度增大。

  ⑤基片清洁。基片整理洗刷方法不适当或不洁净，在基 片上残留有杂质或清洁剂，则引起新的污染。

  ①真空度。进步真空度会增大膜层集合密，添加膜 层结实度，改进膜层结构，使膜层化学成分变纯，但 一起应力也增大。

  ②堆积速率。进步堆积速率不光能够经过进步蒸腾 速率，还能够用增大蒸腾源面积的方法来到达。可是 选用进步蒸腾源温度的方法有其缺陷：使得膜层应力 太大；成膜气体易分化。

  ③基片温度。进步基片温度有利于将吸附在基片表 面的剩下气体分子扫除，添加基片与堆积分子之间的 结合力；但基片温度过高会形成膜层蜕变。

  高温基底的长处： ①将吸附在基底外表的剩下分子扫除，添加基底与沉 积分子之间的结合力； ②增强分子之间的相互作用，使膜层细密，增大附着 力及进步机械强度；

  1). 镀前炮击：离子溅射使基片再清洁，进步膜层 在基片外表的凝集系数和附着力；

  薄膜中固体部分 （的 柱体 体积 的体积） p 薄膜的总体积（ 空柱 隙体 ）

  1 光学薄膜器材的质量开展要求 2 影响膜层质量的工艺要素 3 膜层厚度监控 4 膜层厚度均匀性