在国家十四五科技发展规划的指导下，作为重塑国家创造新兴事物的能力和竞争实力的关键要素，光学行业将跨入转变发展方式与经济转型以及跨界融合的新发展阶段。计算光学、拓扑光子学、微纳光学、超分辨率显微技术等前沿光学技术探讨研究一直更新迭代。未来，高透过率、超高清、AI识别、大口径小尺寸、小型轻量化、高度集成、成像传感融合等将成为光学发展的关键词。

  洞察光电趋势，聚焦产学研用融合。为了进一步融合光学产业链，探索光学新型技术及应用。2024年9月11日-13日与CIOE中国光博会同期举办“2024全球精密光学人机一体化智能系统论坛”。论坛将以光学领域中的热门应用与关键技术为核心，探讨计算光学成像、超构光学、拓扑光子学、先进光刻工艺、纳米压印技术、超精密加工技术、超构表面与透镜、工业内窥镜、医疗内窥镜、光学薄膜、光学半导体检测、微型光谱检测等热门技术线全球精密光学智能制造论坛

  中国光学学会光学制造技术专业委员会、复旦大学上海超精密光学制造工程技术研究中心、CIOE中国国际光电博览会（CIOE中国光博会）合作主办：

  同济大学、清华大学、长春理工大学、北京理工大学、浙江大学、之江实验室 、香港应用科技研究院、中国科学院深圳先进技术研究院、深圳市光学光电子行业协会协办单位：

  。作为一种新型的成像解决方案，以具体的应用任务为准则，通过多维度获取或编码光场信息，为传感器设计提供了远超人眼的感知新范式。目前，计算光学成像正处于快速地发展阶段，已在手机摄像、医疗、无人驾驶等领域开始规模化应用。未来，计算光学成像有望进一步颠覆传统成像体系，带来更具创造力和想象力的应用。

  作为计算成像领域的“赋能者”与“被赋能者”，不同的企业与专家们是怎么样看待计算光学成像技术改变产品、市场和行业生态的？本论坛特邀威睛光学董事长孙琼阁女士、西湖智能视觉创始人，西湖大学研究员袁鑫博士

  邵晓鹏教授以及清华大学曹良才教授等计算成像领域企业代表与专家，将深度探讨下一代光电成像技术——计算光学成像的应用进展及技术突破等话题。*以上议程如有变更，请以实际为准。

  集成电路产业是现代信息社会的基石，其发展和半导体及微电子技术的进步密不可分。随着电子技术的快速的提升，各种新型半导体元器件层出不穷。对于半导体器件而言，它的制作和生产主要依赖于光刻技术，而具有更高性能的新设备的出现以及对复杂图案和生物相容性的需求引发了人们对新颖且低成本图形化工艺的需求。当前，各种光刻技术都在争相提出各种改进技术，以满足日渐增长的市场需求。而光刻技术本身存在多种路线，如极紫外光刻技术（EUV）、纳米压印光刻等。

  罗刚博士以及苏科思科技（Sioux Technologies）副总经理曾旭博士等半导体制程产业链中涉及的关键企业代表，分享他们在光刻与纳米压印研发技术方面的最新进展，共探集成电路产业的无限可能。*以上议程如有变更，请以实际为准。