Deprecated: Creation of dynamic property db::$querynum is deprecated in /www/wwwroot/www.mianyangzhuangxiugongsi.com/inc/func.php on line 1413

Deprecated: Creation of dynamic property db::$database is deprecated in /www/wwwroot/www.mianyangzhuangxiugongsi.com/inc/func.php on line 1414

Deprecated: Creation of dynamic property db::$Stmt is deprecated in /www/wwwroot/www.mianyangzhuangxiugongsi.com/inc/func.php on line 1453

Deprecated: Creation of dynamic property db::$Sql is deprecated in /www/wwwroot/www.mianyangzhuangxiugongsi.com/inc/func.php on line 1454
每日研讨纪要IC关键材料之光刻胶上海新阳、容大感光、南大光电_星空体育竞技娱乐app官网

0755-29726755

行业新闻

每日研讨纪要IC关键材料之光刻胶上海新阳、容大感光、南大光电

日期:2024-10-27 作者:星空体育官网app

  光刻胶又称光致抗蚀剂是光刻成像的承载介质,由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成份组成的对光敏感的混合液体。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射下,其溶解度发生明显的变化,经适当的溶剂处理,溶去可溶性部分,最终得到所需图像。光刻胶的化学品构成:

  光刻胶技术繁多,品种不少。根据其化学反应机理和显影原理分类,可分为正性光刻胶和负性光刻胶两类。

  行业政策支持:2014年发布的《国家集成电路产业高质量发展推进纲要》将“开发光刻胶、大尺寸硅片等关键材料,加强集成电路制造企业和装备、材料企业的协作,加快产业化进程,增强产业配套能力。”作为主要任务和发展重点。

  2017年国家发改委发布《增强制造业核心竞争力三年行动计划(2018-2020年)》,将光刻胶列入新材料关键技术产业化的重点领域。

  2020年国内的企业还是以PCB光刻胶为主,占国内生产光刻胶的94%,国产化率已超越60%。LCD光刻胶的国产化率35%左右。半导体光刻胶领域已有29%的国内生产,但基本集中在g线、i线光刻胶,在高端制程的光刻胶基本依赖进口,国内仅占2%。

  下游面板与半导体行业一直增长的需求,使得光刻胶的市场空间增大,根据全球领先的媒体情报公司Cision数据,2019年中国光刻胶市场规模约88亿人民币,预计该市场未来3年仍将以年均15%的速度增长,至2022年中国光刻胶市场规模将超过117亿人民币。

  半导体光刻胶作为半导体核心耗材,直接影响晶圆良率与品质。光刻胶及其辅助材料在半导体材料中的市场规模占比达到12.5%和 12.2%。2019年1月台积电就曾因使用了不合格的光刻胶,导致近十万片晶圆报废,影响近150亿元营收,凸显光刻胶在晶圆生产的重要性。半导体光刻胶从目前市场上已实际应用的主要半导体光刻胶来看,其按照曝光波长,可分为g线个大类。其中,ArF光刻胶为目前分辨率最高的半导体光刻胶,ArF干式和浸没式光刻胶占据42%的市场占有率。高端的KrF和g线%市场份额。

  半导体光刻胶是日美厂商高度垄断的行业,日本厂商东京应化、JSR、住友化学、富士胶片分别占据 27%、13%、12%、8%份额。

  半导体光刻胶目前国内自给率极低。适用于 6 英寸硅片的 g 线/i 光刻胶的自给率约为 20%,适用于 8 英寸硅片的 KrF 光刻胶的自给率不足 5%,而适用于 12 英寸 硅片的 ArF 光刻胶完全依赖进口,是最先进的 EUV 光刻胶目前仅有少数几家海外公司 掌握了有关技术,且未实现产业化。根据推算,国内ArF 市场需求达 2.5 亿美元。

  1. 上海新阳:成立于2004年,公司基本的产品主要为半导体生产所需电镀液及清洗液等。上海新阳2020年拟向特定对象发行股票进行KrF光刻胶及干式ArF光刻胶的研发和生产,目前上海新阳光刻胶产品处于中试阶段,即将开展客户验证工作。

  2.晶瑞股份:成立于2001年,公司基本的产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。子公司苏州瑞红承担并完成了国家重大科学技术项目02重大专项“i线光刻胶产品研究开发及产业化”项目。公司紫外负型光刻胶和宽谱正胶及部分g线等高端产品已规模供应市场数十年,i线光刻胶近年已供应国内头部芯片公司,KrF光刻胶已完成中试,进入客户测试阶段。

  3.北京科华:成立于2004年,是集光刻胶研发、生产、检测、销售于一体的中外合资企业,同时也是中国在光刻胶领域拥有自主知识产权的高新技术企业。基本的产品为光刻胶和配套试剂。北京科华已经陆续研制出了一系列高端光刻胶产品(包括i线、g线、KrF光刻胶等),部分产品已经量产。

  4.南大光电:公司承担了国家02专项“高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品关键研发技术项目”和“ArF光刻胶开发和产业化项目”。

  募投项目:拟量产的光刻胶基本的产品为干式及浸没式光刻胶,目前公司是唯一一家完成浸没式ArF光刻胶研发并进行产业化的企业。

  2020年12月,公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过某客户的使用认证,本次验证使用的50nm闪存技术平台,该工艺平台的光刻胶在业界有代表性。公司ArF光刻胶产品成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。

  答:LCD是被动发光器件,其色彩显示是由本身的背光系统或外部的环境光提供光源,通过驱动器与控制器形成灰阶显示,再利用彩色滤光片产生红、绿、蓝三基色,依据混色原理形成彩色显示画面。

  其中,根据颜色的不同,可以将光刻胶分为黑色、红色、绿色、蓝色四种。彩色滤光片的制作就是在玻璃基板上应用黑色光刻胶制作黑色矩阵,再应用红、绿、蓝光刻胶制作三原色像素。

  答:光刻胶是在刻蚀前通过光刻来获得掩模板上的结构图形,再通过刻蚀来去除掉不需要的介质层或者硅,不论哪种刻蚀方法都需要光刻胶。

  答:在上海新阳、晶瑞股份和南大光电的股东中未找到国家大基金的持有,北京科华微的大股东彤程新材也没有大基金持股。