触及19种要害材料，且大都都具有较高技能壁垒，而日本企业在其间14种要害资猜中占有全球超越50%的商场占有率。因为商场对需求EUV光刻体系的先进

  东京应化（TOK）正在福岛县制作一座全新的先进光刻胶工厂，该工厂估计将于2024年末开工，2026年竣工。工厂致力于进步KrF（氟化氪）和EUV光刻体系的光刻胶出产能力和质量，并将成为该公司最大的工厂。

  信越化学将出资830亿日元（5.13亿美元）在群马县制作第四家光刻胶工厂，该工厂方案于2026年竣工，将满意出口需求并展开研制活动。信越化学的光刻胶适用于各种光刻工艺，包含EUV。

  三菱化学加大了对光刻胶材料Lithomax的投入。该公司正在其神州工厂装置量产设备，方针是将ArF光刻胶产值进步一倍以上，并在2025年9月之前完成EUV光刻胶的初次量产。

  三井化学正在开发下一代掩模防护膜，即用于EUV光刻的保护膜。其山口工厂方案2026年开端出产，年产值为5000片。

  AGC经过其子公司AGC Electronics加大了对EUV掩模版设备的出资，旨在将产能进步30%。这些用于芯片图画化的掩模版由AGC内部出产并供应给首要芯片制造商。AGC的方针是到2025年EUV掩模版的销售额超越400亿日元。

  含有的光活性化合物构成偶氮染料，在 可见光谱的部分具有很强的吸收能力，对紫外灵敏度没有一点影响。这种变色进程

  结构做处理以进步其化学或物理稳定性。一般咱们我们能够选用烘烤进程来完成整个

  的硬烘烤技能 /

  后烘是指（post exposure bake-PEB）是指在曝光之后的

  后烘技能 /

  形状。这种办法的首要应用领域是剥离进程，在剥离进程中，底切的形状能够有用的防备堆积的

  的图形回转工艺 /

  参数介绍 /

  分类与商场结构 /

  的哪些性质？ /

  需求稀释吗？ /

  的质料包含光引发剂（光增感剂、光致产酸剂协助其更好地发挥作用）、树脂、溶剂和其他添加剂

  商场格式开展现状 /

  【RA-Eco-RA2E1-48PIN-V1.0开发板试用】2、第一个程序

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