近来，中国科学院上海光学精密机械研讨所薄膜光学实验室在依据低温等离子体增强原子层堆积的紫外减反射激光薄膜研讨中取得新进展，开始完成了紫外减反射薄膜的损害阈值提高。相关研讨效果已宣布在

  原子层堆积技能有很准确的厚度可控性、高均匀性、优异的共形性和较高的激光损害阈值，在激光薄膜范畴具有十分杰出的远景。现在，通过热原子层堆积制备高功率激光薄膜的测验大多散布在在运用TiO2和Al2O3资料，或许HfO2和Al2O3资料制备近红外减反射薄膜。运用原子层堆积技能制备紫外减反射薄膜的报导相对较少。很多的电子束激光薄膜研讨依据效果得出，运用HfO2和SiO2资料能轻松的取得更高激光损害阈值的紫外减反射薄膜。但是，热原子层堆积技能制备SiO2所需的堆积温度比较高，不利于HfO2层的抗激光损害功能。

  研讨人员选用低温等离子体增强原子层堆积技能，系统研讨了SiO2和HfO2薄膜的激光相关功能。与HfO2薄膜比较，SiO2薄膜具有较低的杂质含量与吸收，表现出更高的激光损害阈值。这使得低温等离子体增强原子层堆积的SiO2薄膜适合于紫外激光使用。规划并选用低温等离子体增强原子层堆积技能制备了一种使用于355 nm激光的双层结构HfO2/SiO2减反射薄膜。该减反射薄膜在355nm的实测反射率低于0.2%，激光损害阈值（24.4 J/cm2，脉宽7.8ns）高于电子束堆积减反膜薄膜（20.6 J/cm2，脉宽7.8ns）。该项效果有望为紫外减反射薄膜的抗激光损害功能提高供给新思路，丰厚紫外减反射薄膜的制备技能。

  相关作业得到了国家自然科学基金委、中国科学院青年立异促进会基金、上海市青年优秀人才方案、中国科学院战略性先导科技专项等的支撑。

  图2 等离子体增强原子层堆积（PEALD）和电子束堆积（E-beam）减反射薄膜的功能比照。（a）反射光谱，（b）膜层吸收，（c）激光损害概率。